日の本研磨材株式会社

研究開発や試作に欠かせないCMP（化学機械研磨）装置を幅広く展開する日の本研磨材株式会社。本記事では、省スペースでも導入可能な高剛性設計の特徴をはじめ、300mmウェーハ対応機、MEMS用マニュアル装置、卓上型装置までのラインアップを詳しく紹介します。

日の本研磨材株式会社のCMP装置の特徴

R&Dに最適化した実験装置ラインアップ

日の本研磨材のCMP装置は、研究開発や試作用途に適した実験装置を幅広く展開しています。300mmウェーハ対応の手動ローディング装置は、大口径ウェーハでの検証を可能にし、MEMS向けのマニュアルCMP実験装置はプロセス要件に応じて各パラメータを個別に設定できる柔軟性を備えています。さらに、コンパクトで扱いやすい卓上型も揃えており、用途や研究段階に応じて適切な機種を選択できる点が特徴です。

高剛性なフットプリント設計

同社の装置は、CMPで想定される高負荷の加工プロセスに対応できるよう、高い剛性を確保しながら設計されています。堅牢な筐体構造によって長時間の安定した研磨性能を発揮するだけでなく、最小限のフットプリントで設置可能なため、限られた実験スペースにも導入が可能です。高負荷対応と省スペース性を両立させている点が大きな強みといえます。

ドレス機構と柔軟なパラメータ設定

独立したドレスユニットや小径スキャンドレスを搭載でき、研磨パッドの状態を維持しながら安定した加工を支援します。さらに、MEMS用の実験装置ではキャリア軸を独立で持ち、それぞれのパラメータを個別に設定可能です。これにより、多様なプロセス条件を細かく検証でき、研究用途で求められる柔軟な対応力を備えています。

日の本研磨材のCMP装置の紹介

CMP R&Dシステム

画像引用元：日の本研磨材株式会社公式サイト(http://www.hinomoto.co.jp/our-products/pr_machine.html)

300mmウエハーを手動ローディングで処理できる研究開発向けモデルです。エアーバックによるCMP加工、独立したドレスユニット、小径スキャンドレスに対応し、CMPで想定される高負荷な加工プロセスにも耐える装置剛性を備えます。最小のフットプリントで設計されており、研究開発用途でありながらコストパフォーマンスの高さが特徴です。

MEMS用CMP実験装置

画像引用元：日の本研磨材株式会社公式サイト(http://www.hinomoto.co.jp/our-products/pr_machine.html)

MEMSプロセスの要求に応えるマニュアル機という位置付けです。キャリア軸を独立して備え、それぞれのパラメーターを個別に設定できます。コンパクトなレイアウトながらCMP実験に必要な機能を過不足なく搭載し、直径3インチから6インチまでのワークサイズに対応。試作や少量実験でも取り回しやすい設計です。

卓上型CMP実験装置

画像引用元：日の本研磨材株式会社公式サイト(http://www.hinomoto.co.jp/our-products/pr_machine.html)

CMP専用設計のモデルです。長年の経験から培った高い剛性と信頼性、加工精度を維持しながら、コンパクトに仕上げています。限られたスペースでCMP評価を行いたい研究室や試作現場に適した一台です。

R&Dレベルの本格検証ならCMP R&Dシステム、MEMSプロセス試作ならMEMS用、省スペースな実験環境なら卓上型というように、用途に応じた選び分けが可能です。

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