グローバルネット

グローバルネットは、半導体業界に特化した情報提供やサービスを展開する企業です。主な事業内容として、ウェーハ受託加工サービス、半導体関連の出版、セミナーの企画・運営、CMP（化学機械研磨）装置の販売など、多岐にわたるサービスを提供しています。

グローバルネットのCMP装置の特徴

韓国のG&P Technology社製を取り扱っている

グローバルネットは、CMP装置の販売を手掛けており、韓国のG&P Technology社製の装置を取り扱っているのが特徴です。これらのCMP装置は、さまざまなウェーハサイズや用途に対応しており、試作評価向けの小型装置から、大型パネル対応のCMP装置まで幅広く揃っています。

精密制御による研磨プロセスの安定化

先進的な設計思想を取り入れることで、精密な制御により、研磨プロセスの安定化を支援してきました。大型パネル対応装置や全自動機能を備えたモデルなど、多様なラインナップを揃え、顧客のニーズに応じた仕様を提供しています。

自動化と使いやすさを両立した設計

CMPプロセスの効率を向上させるため、自動化技術を採用しています。POLI-610では自動シーケンス機能を備え、研磨から洗浄までのプロセスを一貫した実行が可能。また、タッチパネルで設定や管理が行えます。

グローバルネットのCMP装置は、新技術開発に取り組む研究機関におすすめです。

GPC-300Aのような自動化機能を備えた装置は、研磨から洗浄までの工程を一貫して処理し、生産性を向上させます。CMPプロセスの最適化を目指す企業にとって、グローバルネットの装置は一つの選択肢となるでしょう。

このメディアでは、CMP装置の導入を検討している企業向けにさまざまなCMP装置メーカーを紹介しています。

TOPページではウェーハサイズと研磨用途別にCMP装置メーカーを比較して掲載していますので、装置選定の参考としてご活用ください。

＼研究開発・安定供給・大型基板対応／ 研磨用途別
CMP装置メーカー3選を見る

グローバルネットのCMP装置の紹介

材料評価用大型パネル対応CMP装置（POLI-1300PCB）

画像引用元：グローバルネット公式HP（https://global-net.co.jp/archives/category/equipment）

韓国のG&P Technology社が製造する化学機械研磨（CMP）装置で、研究開発用途に適しています。この装置は、高い剛性と安定した再現性を備え、最大25インチ×25インチまたは直径900mmの大型パネルに対応可能です。手動ローディング方式を採用し、タッチパネルで操作ができます。

化合物半導体向け　CMP装置（POLI-610）

画像引用元：グローバルネット公式HP（https://global-net.co.jp/archives/category/equipment）

サファイア、SiC、GaNなどの化合物半導体ウェーハのCMPプロセス開発向けに設計された装置です。この装置は、ウェーハ加工、材料評価、試作生産に適しており、コスト効率の面でも優れています。高い剛性と安定した再現性を備え、最大350kgfのダウンフォースを実現。ダブルヘッドシステムを採用し、効率的な研磨が可能です。

全自動Dry-in / Dry-out CMP装置（GPC-300A）

画像引用元：グローバルネット公式HP（https://global-net.co.jp/archives/category/equipment）

韓国のG&P Technology社が製造する全自動化されたCMP装置です。この装置は、300mm（8インチ）のウェーハに対応しています。研磨から高圧洗浄、超音波洗浄までを一貫して行うDry-in/Dry-out方式を採用。効率的なウェーハ処理が可能です。

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