ダイシングで起こるチッピングの原因と対策とは?

ダイシングチッピングとは

ダイシング工程で起こるチッピングの基本

ダイシングにおけるチッピングとは、切断時にワークの端部や切断面に微小な欠けが生じる現象です。半導体ウェーハや電子部品などの脆性材料では特に発生しやすく、見た目には小さくても製品品質に影響することがあります。

ダイシングは高精度な分割加工が求められる工程のため、わずかな欠けでも問題になる場合があります。 そのため、単に切断できているかではなく、切断面の状態まで含めて品質を確認することが重要です。

チッピングが品質や歩留まりに与える影響

チッピングが発生すると、外観不良だけでなく、後工程での実装性や信頼性に影響するおそれがあります。欠けが大きい場合は、製品端部の強度低下やクラックの起点になることもあり、歩留まり悪化につながります。

また、チッピングの発生が安定しない状態では、加工条件の再現性にも課題があると考えられます。量産工程では、チッピングを抑えながら安定して加工できる状態をつくることが重要です。

ダイシングでチッピングが発生する主な原因

薄ウェーハや脆性材料で発生しやすい理由

薄ウェーハやガラス、セラミックのような脆性材料は、加工時の衝撃や応力の影響を受けやすく、チッピングが発生しやすい傾向があります。材料そのものが割れやすい性質を持つため、わずかな負荷の差が欠けとして現れやすくなります。

特にワークが薄くなるほど剛性が下がり、加工中の振動や局所的な力に影響されやすくなります。そのため、通常の条件では問題が出にくい場合でも、薄物加工では欠けが顕在化することがあります。

ブレードの摩耗や目詰まりが影響する理由

ダイシングブレードの摩耗が進むと切れ味が低下し、ワークに余分な負荷がかかりやすくなります。また、切りくずの排出が不十分で目詰まりが起こると、切断時の抵抗が増え、端部の欠けが発生しやすくなります。

ブレードは材質や厚み、切断対象に合ったものを選定することが大切です。ワークに対して不適切なブレードを使用すると、加工条件を調整してもチッピングが改善しにくい場合があります。

加工条件や振動がチッピングを大きくする理由

回転数、送り速度、切り込み量などの加工条件がワークに合っていない場合、切断時の負荷が過大になり、チッピングの原因になります。条件が強すぎると欠けが増え、逆に弱すぎても加工が不安定になることがあります。

また、装置やワーク保持の状態によって振動が大きいと、切断面に余計な力が加わりやすくなります。チッピング対策では、ブレードや材料だけでなく、設備側の振れや固定状態も含めて確認することが欠かせません。

冷却水や固定方法が加工品質を左右する理由

ダイシングでは、冷却水が刃先の温度上昇を抑え、切りくずの排出を助ける役割を持っています。冷却が不十分だと熱や摩擦の影響が大きくなり、切断面の荒れやチッピングの増加につながることがあります。

さらに、ダイシングテープやチャックによる固定が不安定だと、加工中にワークが微小に動き、欠けが生じやすくなります。安定した加工を実現するには、冷却条件と保持条件の両方を見直すことが重要です。

ダイシングチッピングの対策方法

ワークに合ったブレードを選定する

チッピング対策の基本は、ワーク材質や厚み、求める切断品質に合ったブレードを選ぶことです。砥粒の粒度や結合度、ブレード厚みが適切でないと、加工時の負荷が増え、欠けが発生しやすくなります。

特に薄物や硬脆材料では、一般的な条件のままでは安定しないことがあります。対象ワークに合わせて仕様を見直すことで、加工面の品質改善と不良低減の両立を図りやすくなります。

回転数や送り速度など加工条件を最適化する

ブレードが適切でも、加工条件が合っていなければチッピングは抑えられません。回転数、送り速度、切り込み量などを調整し、ワークに過大な負荷を与えない条件を見極めることが大切です。

条件設定では、一つの値だけで判断するのではなく、複数の要素を組み合わせて最適化する視点が必要です。チッピングの改善は、ブレード選定と加工条件の両面から進めることが基本です。

冷却と洗浄の条件を見直す

冷却水の量や当たり方が適切でないと、刃先に熱がこもりやすくなり、切断状態が不安定になることがあります。また、切りくずが十分に流れないと目詰まりが起き、チッピングを助長する要因になります。

そのため、ブレードや送り条件だけでなく、冷却や洗浄の設定も見直すことが重要です。加工点の状態を安定させることで、切断面の乱れを抑えやすくなります。

ダイシングテープや固定方法を適正化する

ワークの固定状態が不十分だと、加工中の微小な振れや浮きによって切断面に悪影響が出ます。特に薄ウェーハでは保持力の差が品質に直結しやすく、チッピングの発生にも影響します。

ダイシングテープの選定や貼り付け状態、チャック面の管理などを見直すことで、ワーク保持の安定性を高めることができます。設備条件だけでなく、前準備の品質も重要な対策の一つです。

薄ウェーハでは裏面チッピング対策を重視する

薄ウェーハでは、表面だけでなく裏面側のチッピングも問題になりやすくなります。見た目には小さな欠けでも、後工程や最終品質に影響する可能性があるため、表裏の状態をあわせて確認する必要があります。

そのため、薄物加工では通常よりも慎重な条件設定が求められます。ブレード、送り条件、保持方法を総合的に見直し、裏面を含めた切断品質の安定化を目指すことが大切です。

ダイシング方式ごとの特徴とチッピングの考え方

ブレードダイシングの特徴

ブレードダイシングは、砥石ブレードを用いて物理的に切断する一般的な方法です。対応できる材料や用途が広く、加工条件の調整もしやすいため、多くの現場で採用されています。

一方で、物理的接触を伴うため、材料や条件によってはチッピングが発生しやすくなります。そのため、ブレード仕様や条件設定の最適化が品質確保の重要なポイントになります。

レーザーダイシングの特徴

レーザーダイシングは、レーザーエネルギーを利用して切断や加工を行う方式です。接触加工ではないため、条件によっては機械的な負荷を抑えられる可能性があります。

ただし、すべてのワークで万能というわけではなく、材料特性や要求品質に応じた見極めが必要です。チッピング対策の観点でも、加工方式の違いを理解したうえで選定することが重要です。

ステルスダイシングの特徴

ステルスダイシングは、ウェーハ内部に改質層を形成し、その後の工程で分割する方式です。表面から直接切り込まないため、条件によっては切断面への影響を抑えやすい特徴があります。

一方で、適用できる材料や工程条件には制約があり、すべてのケースに適しているわけではありません。加工品質、設備要件、生産条件をふまえて適した方式を選ぶことが求められます。

チッピング対策で押さえたい評価と確認ポイント

チッピングの観察と測定の進め方

チッピング対策では、発生の有無を見るだけでなく、どの位置にどの程度の欠けが出ているかを継続的に確認することが大切です。観察結果を蓄積することで、原因の切り分けや条件改善につなげやすくなります。

また、評価基準が曖昧なままだと、改善の成果を正しく判断できません。現場では、観察方法や判定基準をそろえ、再現性のある評価ができる状態を整えることが重要です。

異常チッピングを見極めるための考え方

すべての欠けを同じように扱うのではなく、製品品質に影響する異常なチッピングを見極める視点が必要です。大きさ、発生位置、頻度などを踏まえて、許容範囲と異常の境界を整理することが求められます。

異常の定義が明確になれば、設備調整やブレード交換の判断もしやすくなります。品質管理の観点では、チッピングを見つけることよりも、どう評価して改善につなげるかが重要です。

ダイシングチッピング対策で重要なのは原因に応じた見直し

原因を切り分けて対策を組み合わせる重要性

ダイシングのチッピングは、一つの原因だけで発生するとは限りません。材料特性、ブレード、加工条件、冷却、固定方法など、複数の要因が重なって起こることが多いため、原因を切り分けながら確認する必要があります。

そのため、対策も一つに絞るのではなく、影響が大きい要素から順に見直すことが効果的です。発生状況を整理しながら改善を進めることで、無駄の少ない対策につながります。

量産で安定加工を目指すための視点

量産現場では、単に一時的にチッピングを減らすだけでなく、同じ品質を安定して再現できることが重要です。そのためには、条件出しだけでなく、ブレード管理や設備点検、評価基準の整備も欠かせません。

ダイシング品質を安定させるには、工程全体を通じて変動要因を減らす視点が必要です。原因に応じた適切な見直しを積み重ねることが、チッピング対策の基本です。

研磨用途別
CMP装置おすすめ3選
研究開発用の基板
試作したい
北川グレステック
DCMシリーズ
北川グレステックのCMP装置 DCMシリーズ
引用元:北川グレステック公式HP
(https://www.kitagawagt.co.jp/product/925/)
特徴

柔軟性と高い機械剛性を備え、角チップも取り付け可能。金属・酸化・窒化膜、ベアウエハはもちろん材料や関連商品などの研究開発向けに、試作の細かな調整がスムーズに行える卓上型CMP装置。

ウェーハ
サイズ
チップサイズ
~150mm
\研究開発用の基板に/詳細を公式HPで
確認する
安定した量産体制
確立したい
荏原製作所
F-REX300X
荏原製作所のCMP装置 F-REX300X
引用元:荏原製作所公式HP
(https://www.ebara.co.jp/products/details/FREX300XA.html)
特徴

自動研磨機能と4つのテーブルを使ったデュアルモジュール構造で効率的な半導体製造の歩留まり向上を実現。安定した品質と高い生産効率を提供。

ウェーハ
サイズ
~300mm
\生産体制の安定に/詳細を公式HPで
確認する
大型基板の加工精度
向上させたい
岡本工作機械製作所
PNX1200
岡本工作機械製作所のCMP装置 PNX1200
引用元:岡本工作機械製作所公式HP
(https://www.okamoto.co.jp/polishing-machine)
特徴

大型基板の高密度配線やTSV(貫通電極)プロセスの複雑な構造に対応した450mmウェーハ用では世界初※の全自動CMP装置。ポリッシュ取り代量の多い工程でも、安定した研磨性能。

ウェーハ
サイズ
~450mm
※参照元:岡本工作機械製作所公式HP(https://www.okamoto.co.jp/polishing-machine)
研磨用途別
CMP装置3選